TFT G8.5连续式磁控镀膜系统

用途：适用于TFT Gate膜系、D/S膜系及Pixel膜系的制造

基材：玻璃 设备优势： 1.倾斜式腔体设计以提高基片运行的稳定性 2.配置阵列式阴极，可实现静态镀膜，极大的减少了partical的影响 3.高精密mask设计，避免绕镀现象 4.独到的基片架设计及夹片表面处理，降低产品破片率 5.全自动高速上下片及翻片机构设计，较大得提高了生产节拍